ケイ素化学技術賞 受賞者リスト

ケイ素化学技術賞 受賞者リスト

  • 第19回(2023年(令和5年))
    ・杉浦常仁、早田達央、飯村智浩、秋山雄大、松葉将史(ダウ・東レ株式会社)
    「カルボシロキサンデンドリマーアクリレートの開発」
  • 第18回(2022年(令和4年))
    ・田部井栄一、宝田充弘(信越化学工業株式会社)
    「光デバイス用有機変性シリコーン材料の開発」
  • 第17回(2021年(令和3年))
    ・田﨑 智子、野副 次雄、秋友 裕司、森本 浩登希、山本 真一(ダウ・東レ株式会社)
    「エアバック用シリコーンエラストマー製品の開発」
  • 第16回(令和2年)
    ・伊藤 賢哉、平木 聡一郎、及川 尚夫、山廣 幹夫(JNC株式会社 JNC石油化学株式会社)
    「新奇フルオロアルキルシルセスキオキサンをベースとする機能性コーティング材料の開発と工業化」
  • 第15回(令和元年)
    ・小林 真吾、 奥村 智之、 鈴村 克之、 片石 拓海、 川濱 佳祐(富士高分子工業株式会社 技術部)
    「高耐熱性を有する熱伝導性シリコーン材料技術の開発」
  • 第14回 (平成28年)
    ・作田 晃司、中西 鉄雄(信越化学工業株式会社)
    「化粧品用シリコーン増粘剤とW/O乳化剤」
  • 第13回 (平成27年)
    ・森田 好次、吉武 誠、佐川 貴志、小林 昭彦、中田 稔樹(東レ・ダウコーニング(株))
    「フェニルシリコーン系高屈折率LED封止材の開発」
  • 第12回 (平成25年)
    ・木村 恒雄、坂本 隆文、亀田 宜良、勅使河原 守(信越化学工業(株))
    「室温速硬化性シリコーンゴム材料」
  • 第11回 (平成22年)
    ・大内 克哉 、井手 正仁、一柳 典克、藤田 雅幸、津村 学((株)カネカ)
    「高耐光・高耐熱性有機ー無機モレキュラーハイブリッドの開発」 
  • 第10回 (平成19年)
    ・岡田 茜 、臼杵 有光、川角 昌弥、加藤 誠、長谷川 直樹((株)豊田中央研究所 材料分野)
    「ナイロン-粘土 ハイブリッドの研究と開発」
  • 第8回 (平成15年)
    ・首藤 重揮、畔地 秀一、藤木 弘直、山川 直樹、廻谷 典行(信越化学工業(株)、信越ポリマー(株))
    「液状シリコーンゴムとプラスチックスの接着」
  • 第7回 (平成14年)
    ・潮 嘉人、峰 勝利、一色 実、山川 君男、石田 浩一(東レ・ダウコーニング・シリコーン(株))
    「シリコーンエラストマーフィルム接着剤の開発」
  • 第6回 (平成13年)
    ・福島 基夫、中村 勉(信越化学工業株式会社)
    「新しい導電性粉体の開発とその高導電性シリコーンゴム材料への応用」
  • 第5回 (平成12年)
    ・織田 卓、湯井 幸二、林藤 克彦(花王(株))
    「エタノール溶解性シリコーンエラストマーの開発と種々の家庭用品への応用」
  • 第4回 (平成11年)
    ・塩原 利夫、隅田 和昌、熊谷 公孝、若尾 幸、土橋 和夫(信越化学工業(株))
    「高性能アンダーフィル材料の開発」
  • 第3回 (平成10年)
    ・旭 正彦、川俣 章、鈴木 祐二、吉野 浩二(花王株式会社)
    「定鎖長シロキサンの一般的合成法とそれに基づく化粧品用新機能シリコーンケミカルの開発研究」
  • 第2回 (平成9年)
    ・伊藤 正義、井上 浩二、岩田 健二、石川 淳一、三塚 雅彦(三井化学株式会社)
    「高耐熱性含ケイ素高分子"MSP-1"の研究開発」
  • 第1回 (平成8年)
    ・猿山 俊夫、冨樫 敦、松下 隆雄、山寺 豊彦、Chi-Long Lee(東レ・ダウコーニング・シリコーン(株))
    「マイクロカプセル化白金触媒を使用した新しいヒドロシリル化硬化システムの開発」
    ・斎藤 信宏、山藤 茂夫、冠木 公明、小国 尚之、稲田 実(東芝シリコーン(株))
    「フロン代替洗浄剤「テクノケア」の技術開発」